大宗气体（Bulk Gas）是半导体工厂的"血液"。本文以流程图形式解析N₂、O₂、Ar、H₂从储罐到用气点的完整工艺。
图：大宗气体供应系统典型流程
1. 主要设备与功能
- 低温储罐：储存液氮/液氧/液氩，-196℃
- 汽化器：环境空气或蒸汽加热，液体气化
- 调压站：将压力调节至用户所需值（通常0.7~0.9MPa）
- 纯化器：进一步去除杂质（O₂除H₂O、CO₂等）
- VMB/VMP：分配至各用气点
2. 不同气体的特殊要求
- N₂：一般氮气（GN₂）和高纯氮气（HPN₂）双管路
- H₂：需设置防爆墙、火焰探测器、紧急排放系统
- O₂：管路需严格禁油，阀门需脱脂处理